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當前位置:首頁  >  技術(shù)文章

  • 2023

    6-28

    等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔等目的。等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、活化和表面準備等,可選擇40KHz、13.56MHz和2.45G...

  • 2023

    6-26

    烤膠機是一種常見的工業(yè)設(shè)備,主要用于將膠水加熱至一定溫度,使其變得粘稠并能夠在物體表面形成均勻的涂層。在選購烤膠機時,需要考慮以下因素:1、產(chǎn)能需求:不同的具有不同的產(chǎn)能水平,也就是每小時能夠處理多少膠水。根據(jù)實際需求選擇適合的產(chǎn)能水平,以免容量過大或過小導致資源浪費或生產(chǎn)延誤。2、溫度范圍:不同種類的膠水需要的加熱溫度是不同的,因此在選擇時需要注意其溫度調(diào)節(jié)范圍是否覆蓋所需加熱溫度。一般情況下,溫度范圍應該在50°C到250°C之間。3、加熱方式:加熱方式可以分為電加熱、蒸...

  • 2023

    6-12

    實驗室自動涂膜機是一種常見的實驗用設(shè)備,主要應用于制備不同材料的薄膜和涂層。它可以自動化地涂覆各種材料,如聚合物、金屬和陶瓷等。實驗室自動涂膜機在實際應用中,使用者需要注意以下事項:1、設(shè)備操作前的準備工作:使用者需認真閱讀設(shè)備說明書并熟悉設(shè)備結(jié)構(gòu)和操作流程。在操作前應進行設(shè)備預熱、清潔和檢查,確保設(shè)備能夠正常運行。2、安全操作:使用者需佩戴適當?shù)膫€人防護裝備,如手套、眼鏡、口罩等,避免因意外事件造成傷害。此外,在操作過程中應遵循安全操作規(guī)程,嚴格按照標準操作程序進行操作。3...

  • 2023

    6-9

    提拉涂膜機也稱作浸漬提拉機,垂直提拉機,浸漬涂布機,垂直提拉涂膜機等,英文翻譯成Dipcoater。垂直提拉涂膜機是專為研究液相生長薄膜而設(shè)計的,使需要生長薄膜的樣件浸入薄膜液體中,再垂直提拉回來,使樣件表面薄膜自然干燥或在恒溫干燥箱中進行干燥。提拉涂膜機的工作原理是使用提拉裝置代替人手操作過程使樣件浸入或提拉出液體并使樣件表面生長出薄膜。通常有提拉絲傳動和絲杠傳動兩種,兩種傳動方式在提拉樣件時都力求盡量保證樣件運行平穩(wěn),不出現(xiàn)樣件顫動,樣件在進出液面時不出現(xiàn)液面振動,從而保...

  • 2023

    5-29

    實驗室涂膜機是一種常用的材料制備設(shè)備,能夠在基板表面均勻涂布薄膜。涂布速度和厚度是涂膜過程中非常重要的參數(shù),需要根據(jù)實際需求進行調(diào)整。下面將分別介紹如何調(diào)整實驗室涂膜機的涂布速度和厚度。1、調(diào)整涂布速度涂布速度是指每單位時間內(nèi)涂布膜料的長度,通常以米/分鐘或英尺/分鐘為單位表示。涂布速度的選擇對涂層質(zhì)量、生產(chǎn)效率和成本等方面都有影響。以下是幾種常見的方法來調(diào)整涂布速度:(1)改變送料器的轉(zhuǎn)速:涂布速度與送料器轉(zhuǎn)速成正比例關(guān)系,在保證料液流暢的情況下適當增加送料器轉(zhuǎn)速,可以提高...

  • 2023

    5-16

    烤膠機是一種用于粘合材料的設(shè)備,它可以通過加熱使膠水融化并附著在物體表面上。它在制造業(yè)中廣泛應用,但如果不正確使用,可能會對用戶和周圍環(huán)境造成危險??灸z機的安全使用與操作規(guī)范:1.設(shè)備檢查在每次使用前,必須對其進行檢查以確保其正常工作。檢查包括電源插頭、電線、電壓、溫度控制器、加熱元件以及其他關(guān)鍵部件是否完好無損。如發(fā)現(xiàn)任何問題,都需要修理或更換部件。2.安裝與放置在使用時,應將其安裝在平坦、穩(wěn)定的表面上,以避免設(shè)備傾斜或搖晃而導致意外事故。同時,應將其放置在通風良好、避免火...

  • 2023

    5-4

    勻膠機旋涂儀是一種用于制備薄膜的實驗設(shè)備,通過將溶解的材料涂覆在旋轉(zhuǎn)的基板上制備薄膜。勻膠機用于均勻涂布材料,而旋涂儀則用于控制薄膜的厚度和質(zhì)量。這些設(shè)備通常用于電子學、光學和材料科學等領(lǐng)域的研究。其主要工作原理是將固態(tài)膠片或者涂料均勻地涂布在一個基材表面上。該設(shè)備由旋涂部分和傳送部分組成。首先,待處理的基材被夾在旋涂機的傳送帶上,然后通過旋轉(zhuǎn)滾筒將固態(tài)膠片或者涂料均勻地覆蓋在基材表面上。旋涂機的旋轉(zhuǎn)速度和涂布厚度可以通過調(diào)整控制系統(tǒng)來實現(xiàn)。同時,也可以通過加熱系統(tǒng)來提高膠片...

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